Valt, Alexandre (2008) Etude de deux procédés de polymérisation d’un précurseur gazeux dans un plasma radiofréquence basse pression et liquide déposé sur un substrat activé par décharge à barrière diélectrique à pression atmosphérique : application aux propriétés antifouling. PhD thesis Génie des Procédés et Technologies avancées, Laboratoire de génie des procédés plasma et traitements de surface, ENSCP Thèse plasma Valt Alexandre p.234.
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Abstract
Ce travail démontre la faisabilité de deux procédés de polymérisation d’un précurseur gazeux dans un plasma radiofréquence basse pression et liquide déposé sur un substrat activé par décharge à barrière diélectrique à pression atmosphérique pour l’obtention de couches minces de polymère. L’étude porte sur la fonctionnalisation de substrats organiques par des fonctions éther, connues pour leurs propriétés d’anti-adhésion vis-à-vis des microorganismes biologiques.
Le procédé « voie sèche » par plasma radiofréquence basse pression induit la fragmentation du précurseur gazeux de façon contrôlée, à l’aide des paramètres de régulation de la décharge. Les dépôts formés sont homogènes, adhérant au substrat, stables au lavage et à la stérilisation par autoclave et possèdent un taux de rétention de la fonction C-O compris entre 70 et 80% suivant le monomère utilisé.
Le procédé « voie humide » permet d’activer, par Décharge à Barrière Diélectrique à pression atmosphérique, des substrats de polystyrène et de polyéthylène à densité surfacique d’énergie contrôlée. Le précurseur est ensuite déposé en post-décharge sur le substrat prétraité, sous forme d’un nébulisât de gouttelettes microniques chargées par Pulvérisation ElectroHydroDynamique en mode cône-jet pour former un film liquide à flux de matière contrôlé. Cette étude a permis de confirmer que la polymérisation est initiée par les radicaux générés en surface du substrat formant des dépôts de quelques µm d’épaisseur. Les rendements de polymérisation dépendent alors de la densité surfacique d’énergie transférée au substrat, de la masse déposée par unité de surface et du temps entre le prétraitement et le dépôt.
| Item Type: | PhD Thesis (PhD) |
|---|---|
| PhD Supervisor: | Tatoulian, Michael and Borra, Jean-Pascal |
| Date: | 26 September 2008 |
| Board of examiners: | Leonard, Didier and Mantovani, Diego and Arefi-Khonsari, Farzaneh and Dufour-Gergam, Elisabeth and Tatoulian, Michael and Borra, Jean-Pascal and Morvan, Daniel |
| Ecole Doctorale: | ED 390 GENIE DES PROCEDES ET HAUTE TECHNOLOGIE (CHIMIE ET ENERGETIQUE) |
| Discipline: | Génie des Procédés et Technologies avancées |
| Collection (Fonds): | Chimie Paris ParisTech (ENSCP) |
| Institution: | ENSCP |
| Department: | Laboratoire de génie des procédés plasma et traitements de surface |
| Subjects: | 6. Chemistry, Physical Chemistry and Chemical Engineering 7. Life Sciences and Engineering |
| Uncontrolled Keywords: | Couches minces, Plasma basse pression, Décharge à barrière diélectrique, Electrosray, Antifouling |
| ID Code: | 4961 |
| Deposited By: | Alexandre VALT |
| Deposited On: | 30 March 2009 |
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Table of content
Chapitre 1 : Etude bibliographique sur les procédés de dépôt de couches
minces pour l’obtention de propriétés antifouling 21
I Formation et stratégie d’élimination des biofilms 21
I.1 Définition et étapes conduisant à la formation d’un biofilm 21
I.1.1 Définition et historique 21
I.1.2 Formation d’un biofilm 21
I.1.3 Contexte économique 23
I.2 Moyens de lutte contre la présence de biofilms 24
I.2.1 Traitements curatifs des surfaces contaminées 24
I.2.2 Traitements préventifs 24
I.2.3 Stratégie de formation de couches minces possédant des fonctions éther 25
II Procédé de polymérisation de couches minces par plasma basse pression 27
II.1 Le plasma 27
II.1.1 Définition 27
II.1.2 Classification 27
II.2 Polymérisation par plasma basse pression 28
II.2.1 Généralités 28
II.2.2 Polymérisation de composés éthérés par plasma basse pression 30
II.2.2.1 Choix du précurseur éthéré 30
II.2.2.2 Influence des paramètres opératoires du plasma sur la sélectivité 34
a Influence de la géométrie de l’enceinte 34
b Influence de la puissance de la décharge 35
c Influence du paramètre de Yasuda (W/FM) 40
d Influence de la pression dans l’enceinte 41
II.2.3 Conclusion 44
III Procédé de polymérisation de couches minces par plasma à pression atmosphérique 45
III.1 Principe de polymérisation à partir de précurseurs liquides et gazeux 45
III.2 Les décharges à barrières diélectriques 48
III.2.1 Caractéristiques électriques des DBD 48
III.2.2 Paramètres de régulation de la DBD 51
III.2.2.1 Influence de la tension 51
III.2.2.2 Fréquence 52
III.2.2.3 Distance inter-électrodes 52
III.3 Traitement de surface par DBD à pression atmosphérique 53
III.3.1 Modifications morphologiques 53
III.3.2 Modifications chimiques 54
III.4 Polymérisation à pression atmosphérique en post-décharge 57
III.4.1 Paramètres influant sur la quantité de sites initiateurs de polymérisation en surface créée par décharge à pression atmosphérique 57
III.4.2 Paramètres influant sur les rendements de polymérisation à pression atmosphérique par greffage en post-décharge 59
III.4.2.1 Influence de la quantité de radicaux ou de fonctions peroxyde en surface 59
III.4.2.2 Influence du temps de polymérisation 60
III.4.2.3 Influence de la température de polymérisation 62
III.4.2.4 Influence de la concentration du monomère 63
III.5 Utilisation de la Pulvérisation électrohydrodynamique comme moyen de dépôt du monomère liquide 65
III.5.1 Principe de la Pulvérisation ElectroHydroDynamique 65
III.5.2 Influence des paramètres de régulation de la PEHD 68
IV Conclusions de l’étude bibliographique 70
Chapitre 2 : Etude et optimisation de la polymérisation de composés éthérés par plasma RF basse pression 85
I Description du réacteur de dépôt pour le procédé de polymérisation d’un monomère gazeux par plasma RF basse pression 87
I.1 Description du réacteur 87
I.2 Choix des précurseurs 89
I.3 Choix des substrats utilisés 91
II Optimisation du procédé plasma basse pression pour la polymérisation de
composés éthérés 93
II.1 Caractérisation physico-chimique des dépôts par plasma basse pression 93
II.1.1 Mise en évidence de la polymérisation du monomère saturé (DEGDME) 93
II.1.2 Contrôle de la sélectivité du procédé 97
II.1.2.1 Influence du monomère 98
II.1.2.2 Influence de la puissance 100
a Analyse de la composition surfacique des dépôts par XPS 100
b Analyse par ToF-SIMS de la structure des polymères formés 103
II.1.2.3 Influence du débit de gaz vecteur 112
II.1.2.4 Influence de la fréquence de pulsation de la décharge 113
II.1.2.5 Influence du temps de traitement 114
II.2 Analyse de la phase plasmagène par spectrométrie de masse 116
II.2.1 Principe de mesures 116
II.2.2 Etude d’un plasma d’argon entraînant les vapeurs de monomère 116
II.2.2.1 Cas du monomère DEGDME 116
II.2.2.2 Cas du monomère DEGMVE 122
II.2.3 Corrélation entre les analyses in situ et ex situ 126
II.3 Conclusion 127
III Application aux propriétés antifouling 129
III.1 Etude de la résistance des couches de polyDEGDME à une immersion dans l’eau et à la stérilisation par autoclave 129
III.2 Analyses biologiques de la propriété d’anti-encrassement (« antifouling ») 131
III.2.1 Protocole expérimental 131
III.2.2 Résultats pour les dépôts de poly-DEGDME 132
III.2.3 Comparaison avec les dépôts de polyDEGMVE 135
IV Conclusion 137
Chapitre 3 : Etude de la polymérisation d’un précurseur liquide déposé par pulvérisation électrohydrodynamique en post-décharge à barrière diélectrique à pression atmosphérique 143
I Conception du procédé de dépôt de couches minces fonctionnalisées sur films polymère 143
I.1 Principe du procédé de dépôt de couches minces 143
I.2 Conditions de prétraitement par Décharge à Barrière Diélectrique 144
I.2.1 Choix et propriétés du substrat et préconditionnement 144
I.2.2 Dispositif expérimental 146
I.2.3 Conditions de prétraitement des substrats de polystyrène 148
I.2.3.1 Caractéristiques impulsionnelles des microdécharges dans l’air 148
I.2.3.2 Propriétés physico-chimiques des substrats prétraités par DBD en fonction de la densité surfacique d’énergie 151
I.2.3.3 Comparaison des systèmes de décharge sur les conditions critiques de prétraitement 156
I.2.4 Conclusion 160
I.3 Définition des conditions de Pulvérisation EHD 161
I.3.1 Dispositif expérimental et diagnostiques 161
I.3.2 Conditions d‘obtention du mode cône-jet 162
I.3.2.1 Succession des modes de Pulvérisation EHD 162
I.3.2.2 Gamme de fonctionnement en débit de liquide du mode cône-jet 165
I.3.3 Définition des conditions de PEHD pour le dépôt de DEGMVE 165
I.4 Conditions de polymérisation et de séchage des couches de DEGMVE formées 167
I.5 Conclusion 172
II Dépôt de couches minces biofonctionnelles 173
II.1 Protocole de formation des couches 174
II.1.1 Paramètres critiques du procédé et moyens de régulation 174
II.1.2 Représentativité des résultats 175
II.2 Mise en évidence de la polymérisation 175
II.2.1 Variation de la masse du substrat avant et après dépôt 175
II.2.2 Morphologie du substrat avant et après dépôt 177
II.2.3 Structure de la couche formée 179
II.2.3.1 Composition chimique des dépôts 179
a Fonctionnalité des dépôts 179
b Composition surfacique des dépôts 180
c Composition volumique 185
II.2.3.2 Homogénéité sur la largeur des dépôts 193
a Homogénéité en volume 193
b Homogénéité en surface 194
II.3 Influence des conditions opératoires du procédé global sur les rendements de polymérisation par initiation radicalaire en surface 196
II.3.1 Analyse des dépôts sans prétraitement 196
II.3.2 Influence du délai entre la décharge DBD et le dépôt sur la durée de vie des espèces actives créées en surface 198
II.3.3 Influence de la densité surfacique d’énergie sur les rendements de polymérisation 200
II.3.4 Influence d’une variation de la masse déposée par unité de surface sur les masses finales polymérisées 202
II.4 Résistance des couches de polyDEGMVE à l’immersion dans l’eau 205
II.5 Conclusions 213
ANNEXE 1 : Spectroscopie des Photoélectrons X (XPS) 223
ANNEXE 2 : Time of Flight Secondary Ions Mass Spectrometry (ToF-SIMS) 225
ANNEXE 3 : Microscope Electronique à Balayage (MEB) 226
ANNEXE 4 : Protocole de mesures par High Pressure Liquid Chromatography (HPLC) 227
ANNEXE 5 : Fourier Transform InfraRed spectroscopy by Attenuated Total Reflectance (FTIR- ATR) 228
ANNEXE 6 : Méthode de dosage des espèces actives en surface 230
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