Petit-Etienne, Camille (2007) Dépôt d’oxyde de silicium par procédé plasma hors équilibre à basse pression et à pression atmosphérique sur de l’acier : application aux propriétés anticorrosion. PhD thesis Génie des Procédés et Hautes Technologies, Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface, ENSCP p.255.
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Abstract
L’objectif de ce travail a été la mise au point de deux procédés de traitement de surface par voie plasma destinés à l’amélioration des propriétés de résistance à la corrosion d’un acier (HLE S235). Des films d’oxyde de silicium (SiOxCy) ont été déposés sur des substrats d’acier par PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) à basse pression et à pression atmosphérique. L’héxaméthyldisiloxane (HMDSO), qui est un organosilicié, a été utilisé comme précurseur. Ces films affichent de très prometteuses propriétés anticorrosion et d’adhésion. Les performances de perméabilité aux gaz et aux liquides des couches déposées par plasma (PECVD) sont très fortement liées à leur composition chimique (présence de carbone, absence de silanol) et à leur structure (épaisseur, densité, volume libre etc…). Celles-ci dépendent des conditions du procédé de polymérisation, c’est à dire des paramètres du plasma tels que la pression, la puissance, le débit d’oxygène, le débit de monomère, le temps de traitement… Les analyses concernant la morphologie du dépôt ainsi que sa composition ont été nécessaires afin de caractériser les dépôts. Nous avons pu obtenir des couches épaisses, continues, lisses, peu poreuses, contenant du carbone. L’efficacité des procédés de dépôts de films d’oxyde de silicium a été validée par l’étude des propriétés de protection contre la corrosion des films par voltampérométrie et par impédancemétrie en milieu NaCl 0,5 M aéré. Pour des conditions optimales de traitement, aussi bien à basse pression qu’à pression atmosphérique, les propriétés anticorrosion ont été nettement améliorées et persistent pour des temps d’immersion importants (Rp stabilisée après 25 h). Un pré-traitement à l’oxygène à basse pression a permis d’augmenter l’adhérence des couches au substrat et donc la protection contre la corrosion pour les dépôts réalisés à basse pression et à pression atmosphérique. Les résistances de polarisation ainsi obtenues ont atteint une valeur de 191 kOhm.cm² et 550 kOhm.cm², respectivement (acier non traité : 1,2 kOhm.cm²).
| Item Type: | PhD Thesis (PhD) |
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| PhD Supervisor: | Arefi-khonsari, Farzaneh |
| Date: | 24 September 2007 |
| Board of examiners: | d’AGOSTINO, Riccardo and Leonard, Didier and Laidani, Nadhira and Sutter, Eliane and Mabille, Isabelle and Cassir, Michel and Arefi-khonsari, Farzaneh |
| Ecole Doctorale: | ED 390 GENIE DES PROCEDES ET HAUTE TECHNOLOGIE (CHIMIE ET ENERGETIQUE) |
| Discipline: | Génie des Procédés et Hautes Technologies |
| Collection (Fonds): | Chimie Paris ParisTech (ENSCP) |
| Institution: | ENSCP |
| Department: | Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface |
| Subjects: | 6. Chemistry, Physical Chemistry and Chemical Engineering 4. Materials Science, Mechanics and Mechanical Engineering 3. Physics, Optics |
| Uncontrolled Keywords: | Oxyde de silicium, Pecvd, Basse pression, Pression atmosphérique, Dbd, Corrosion |
| ID Code: | 4879 |
| Deposited By: | Camille Petit-Etienne |
| Deposited On: | 17 March 2009 |
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